美迪凯:最符合华为韬定律的 3d堆叠技术 玻璃基板封装公司

2026-05-25 22:24:441
一、“韬定律”概览2026年5月25日,华为董事、半导体业务部总裁何庭波在国际电路与系统研讨会(ISCAS 2026)上,正式发表了“韬(τ)定律”-3。该定律的核心是:以“时间缩微”替代“几何缩微”,通过系统性地压缩信号传播时延(即时间常数τ),在不动用更先进制程的前提下,持续提升芯片的晶体管密度与系统性能-3。其实现路径是贯穿器件、电路、芯片到系统的多层级协同优化-3。

二、美迪凯的技术是否符合“韬定律”?

Deepseep给的答案:美迪凯的技术符合“韬定律”,但更准确地说,它是“韬定律”的具体践行者,尤其在商业生态方面已深度融入华为产业链。华为于2026年5月25日发布了“韬()定律”,核心要旨是“以时间缩微替代几何缩微”。它不盲目追求物理尺寸的缩小(摩尔定律的核心),而是通过创新设计和系统优化,持续压缩芯片内部的信号传播“时间”,从电路层面提升整体性能。那么,美迪凯是如何与这一前沿技术路径产生联系的呢? 技术层面:战略跟随与潜在技术协同虽然美迪凯尚未公开宣传已掌握华为“韬定律”的核心技术 “逻辑折叠” ,但其技术和产品布局与“韬定律”的生态发展路径高度相关。它的主营业务广泛布局半导体声光学、半导体封测等领域,并开发了能实现光路多次折叠的光学微棱镜工艺,显著提升了成像质量和变焦能力。这些努力表明,公司持续跟进业界前沿发展趋势,其技术积累能为未来实现更高层级的系统优化打下基础。 商业生态:已深度融入华为产业链这一点是判断符合的直接依据。美迪凯已被市场归入 “华为概念”板块。在投资者互动平台等渠道的表述中,也确认其已成功进入了华为的产业链。


三、公司开发了TGV工艺(玻璃通孔工艺) ,通过激光诱导和温法腐蚀工艺对玻璃基材实现微 小孔径的通孔、盲孔处理 。

美迪凯此次宣布成功开发的TGV工艺,是近期半导体行业的热点,主要原因是业界传英伟达GB200将采用先进封装工艺进行3D堆叠,其中中间层使用玻璃基板,需要TGV工艺来实现大规模互联。外,英特尔、三星、AMD、苹果等大厂此前均表示将导入或探索玻璃基板芯片封装技术。

在微纳光学领域,美迪凯采用灰度光刻、纳米压印及晶圆封装工艺成功开发了一种无基材晶圆级压印光学模组技术,突破性地解决了现有业内光学模组小型化、薄型化的难题,且开发的微形光学模组可集成ARS微纳结构实现抗反射光学性能。在光学薄膜设计及精密镀膜方面,成功研发了各向异性导电膜(ACF)工艺,有效解决了Alpad的压合不良;并且通过膜系设计以及验证成功开发了环境光传感器(金属膜)的工艺,在相同的需求下,使膜层更薄且无效波段的截止效果更好。

在TGV工艺领域,美迪凯通过激光诱导和湿法腐蚀工艺对玻璃基材实现微小孔径(Min 10μm)的通孔、盲孔处理。相关工艺在无源器件、集成天线和MEMS封装、多层玻璃基板堆叠上,都有成熟应用,而这些工艺也正是目前AI芯片2.5D/3D Chiplet封装采用玻璃基板TGV工艺量产的基础技术。





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