VPD垂直供电技术成为高算力芯片的唯一解&AI硬件量价质共振即将传导到VPD

2026-07-09 11:08:027








第一部分:VPD——算力狂飙下的“隐秘卡脖子”环节与爆发前夜






在全球大模型参数量呈指数级爆发的背景下,算力基础设施正面临物理定律的终极考验。市场普遍聚焦于GPU芯片本身,却忽视了制约超大算力落地的两大底层“卡脖子”瓶颈:​​供电墙(Power Wall)​​与​​内存墙(Memory Wall)​​。





​VPD(Vertical Power Delivery,垂直供电技术 / Vital Product Data,关键参数存储)​​在这两大领域均扮演着不可替代的核心角色。无论是由英伟达Rubin架构与华为引领的​​板级垂直供电变革​​,还是由CXL/eSSD驱动的​​新一代存储参数管理​​,VPD都是国产超大算力网络中完全绕不开的核心标的,正处于全面爆发的前夜。

一、 破局“供电墙”:VPD垂直供电技术成为高算力芯片的唯一解

随着AI芯片算力密度激增,芯片核心电压虽维持低压,但电流呈指数级上升,高性能计算的电流密度已达3~4A/mm²。传统的横向供电(LPD,Lateral Power Delivery)受制于物理定律,其长距离传输带来的I²R电阻损耗与PDN阻抗,已无法满足现代AI核心对小于1V的严苛电压容差要求。

VPD(垂直供电技术)应运而生,成为行业确定性方案:
VPD通过将电源模块直接贴装在GPU/ASIC的正下方(PCB背面),实现供电路径的物理折叠。这一变革不仅大幅压降了线损,更将主板正面极其宝贵的空间还给了HBM显存与高速I/O。

​海外巨头全面转向:​​ 英伟达已确定在其下一代Rubin架构中采用VPD方案,因为HBM已占据GPU周围所有空间,VPD成为唯一选择。此外,英特尔、谷歌均已开始尝试。​​国产自主可控跟进:​​ 华为已前瞻性地申请了关于“芯片垂直供电系统”的电压调节模块(VRM)发明专利,标志着国产算力在底层供电架构上正加速与全球顶尖水平对齐。


二、 击穿“内存墙”:VPD芯片卡位新一代AI存力基建

除了供电维度的VPD,在数据中心存储架构演进中,​​VPD芯片(Vital Product Data)​​同样是核心的卡脖子环节。大模型推理场景中,固态硬盘(SSD)不再仅仅是数据容器,而是深度参与运算的“扩展内存”,承担KV Cache缓存等实时任务。

CXL与eSSD架构带来的VPD刚需:
CXL(Compute Express Link)作为全新的互联技术标准,能够让CPU与GPU实现高速互联,大幅度扩展内存容量,这对于AI大模型训练至关重要。市场预期全球CXL市场规模将从2026年的21亿美元飙升至2028年的158亿美元。 在这一架构中,VPD芯片被集成于E3.S等新一代EDSFF eSSD模组和CXL内存扩展模组中,用于提供关键参数管理、设备识别及系统级校验能力。

国产龙头的全球领先身位:
新雷能技术对标国际,在壁垒最高的VPD(三次电源)领域,新雷能选择与ADI深度绑定(ODM模式),利用ADI的芯片技术和海外渠道,成功绕过北美头部客户长周期的直接认证壁垒。目前双方已联合申请多项国际专利,VPD产品已有客户提出需求,并正为国内客户提供定制化开发。以聚辰股份为代表的国产芯片龙头,已与牵头制定行业标准的全球领先存储原厂建立深度合作,​​成为全球首家进入设计验证阶段的VPD开发商​​。这种深度的先发优势构筑了极高的技术与生态壁垒,成功打破了海外垄断,成为国产AI存力基建中极具弹性的稀缺标的。

三、 软硬共振:国产大模型驱动下的全面爆发

近期 DeepSeek-V4 的重磅发布,标志着国产大模型在Agent能力、世界知识和推理性能上达到新高度,更为关键的是其与国产算力底座的深度适配。据技术报告披露,DeepSeek-V4在后训练阶段采用了细颗粒度EP并行策略,在华为昇腾芯片上实现了1.5至1.9倍的速度提升;同时在推理端也与寒武纪等国产芯片完成了基于vLLM框架的深度适配。

随着下半年超级节点大批量上市,国产算力将迎来真正的可用拐点。而算力集群的大规模落地,必将向上游核心元器件传导。作为高算力不可或缺的底层支撑,VPD(无论是解决供电瓶颈的垂直供电方案,还是解决存储瓶颈的参数管理芯片)将迎来确定性的戴维斯双击。

总结

在AI算力军备竞赛进入深水区的今天,“堆芯片”已不再是唯一解。突破物理极限的​​供电架构(Power VPD)​​与打破存储瓶颈的​​关键组件(Storage VPD)​​,构成了超算力产业链中最具爆发力的“隐秘角落”。在国内大模型与国产算力芯片双向奔赴的浪潮中,提前卡位VPD核心技术的企业,必将享受行业从0到1、从1到N的巨大红利,建议重点关注并布局该赛道相关的核心标的。







第二部分:算力浪潮下的高阶硬件传导路径







随着AI服务器架构的持续升级(如英伟达GB200向Rubin架构演进),AI硬件底座正迎来一场从“量变”到“质变”的革命。从底层材料的供给错配,到PCB形态的功能化演进,再到供电网络(PDN)架构向VPD(垂直供电)的终极跨越,产业链呈现出极其清晰的​​“材料→功能化PCB→被动元件→VPD模组”​​传导顺序。这一量价质三重共振的时间窗口将于2026年下半年全面开启,并贯穿整个2027年。

以下我们将结合产业深度数据,为您全景图解这一传导路径的核心逻辑。

一、 核心脉络:AI硬件升级的四大传导梯队

图表解读:
AI服务器的迭代对底层硬件提出了极端的性能要求。由于上游高端材料(如高端电子布、高性能铜箔)扩产认证周期通常长达2-3年,供给弹性的缺失与终端指数级的需求增长形成了严重的供需错配。这种材料端的稀缺不仅直接推升了成本,更进一步倒逼中游PCB制造工艺迭代,并最终汇聚于解决“能耗巨兽”供电瓶颈的VPD模组端,形成了层层递进的涨价与价值重估周期。

二、 供电与元件层(下游):MLCC激增与VPD(垂直供电)终局

图表解读:
AI服务器内部功率密度的极速攀升,直接重塑了供电网络(PDN)的结构,被动元件与供电模组迎来了前所未有的超级周期。

​MLCC(多层陶瓷电容器)的指数级爆发:​​ 传统通用服务器单机MLCC用量约为2,200颗,而在高算力AI服务器中,这一数字飙升至2.8万颗以上(增长逾13倍)。随着GB200向Rubin平台演进,单机MLCC价值量将跃升至4000美金。出货量口径下,AI服务器用MLCC占比正持续攀升,预计在2027年将逼近2.0%。​​终极供电方案 VPD(垂直供电):​​ 面对单GPU超千瓦的功耗(带来2500-3000A以上的电流需求),传统的横向供电已无法克服巨大的线路阻抗损耗。VPD将电源调节模块直接移至芯片正下方,电流垂直打穿基板供电,将路径缩短至极限。​​DrMOS与电感模组化:​​ 伴随算力芯片迭代,多相电源及DrMOS的单机价值量已翻倍至100-150美金以上。同时,电感行业正加速从分立式向模组式(如TLVR电感)跨越,ASP显著抬升。预计在2026H2至2028年,随着国产及海外算力芯片客户的导入验证成熟,相关功率器件的供给需求矛盾将集中爆发。

总结​​:从“上游高阶材料的刚性缺口”,到“中游PCB的形态跃迁”,再到“下游VPD与被动元件的量价齐升”,AI基础设施建设已进入深水区。2026年下半年至2027年,将是这条传导链上各个核心节点兑现业绩高弹性的黄金时间窗。






新雷能在谷歌链的布局已进入关键验证期,7月13日谷歌将召开内部订单大会。公司依托ADI,向谷歌送样的±400V转50V二次电源(800-54V方案)5月初样已通过,近期已交付正样,预计7月出结果。同时三次电源VPD处于全球第一梯队,供应资格基本锁定。一旦结果正面(新雷能相关技术实力处于全球第一梯队,预计很大概率正面),公司将正式切入谷歌TPU整机柜的批量电源配套,打开中期业绩弹性——二次电源放量明年预计贡献25亿收入、4-5亿利润,一次电源潜在空间50-100亿订单,远期市值有机构看到500-600亿,3倍以上空间。

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