一、主营业务
公司是中国领先的半导体制造设备核心部件提供商及真空科学仪器设备供应商，主营业务为干式真空泵和真空科学仪器设备的研发、生产、销售，及相关技术服务。公司产品主要包括用于集成电路晶圆制造及光伏电池等泛半导体产品制造的干式真空泵，以及面向国家重大科技基础设施和科研领域的真空科学仪器设备。公司致力于引领真空技术、支撑科技创新、促进产业发展，为国家战略新兴产业发展和重大科技创新体系建设提供支撑。
作为中国科学院下属专注于洁净真空、超高真空技术研究和发展的企业，公司拥有真空技术装备国家工程研究中心、国家真空仪器装置工程技术研究中心、国家企业技术中心三个国家级研发平台，是我国真空技术及真空类科学仪器攻坚的主力军；公司及其前身先后获国家科学技术进步特等、一等、二等、三等奖共 6 项，中国科学院及省部级科学技术进步奖 20 余项，国家重点新产品 6 项；公司先后 4 次承担“国家极大规模集成电路制造装备及成套工艺（02 专项）”，是“02 专项”重点支持的集成电路零部件研制单位之一，并先后 13 次承担“04 专项”“863 计划”“国家重点研发计划”等国家级重大科研专项/课题；截至 2025 年 12 月 31 日，公司拥有发明专利 103 项，负责或作为主要参与方起草了
13 项真空技术相关的国家、行业及团体标准；2022 年，公司承担攻关任务，研发应用于先进制程苛刻工艺的干式真空泵；“面向集成电路制造领域的无油干式真空泵研发与产业化”项目，获辽宁省 2023 年科技进步一等奖。
干式真空泵领域，公司的研发创新打破欧美及日本企业的长期垄断：干式真空泵产品满足 14nm先进逻辑芯片以及 128 层及以上 3D NAND 等存储器工艺的生产需要，已在中国各领先晶圆制造企业实现大批量应用，广泛支持国内主流晶圆制造企业，以及客户 A 等国内主流集成电路设备制造企业，并已通过台积电、SK 海力士、客户 I 的测试验证实现小批量出货。除硅基半导体外，公司干式真空泵产品也可广泛应用于碳化硅、砷化镓等化合物半导体的制备，并已实现批量交付。
公司是集成电路领域出货量最大的国产干式真空泵制造企业，是唯一在集成电路先进制程实现批量应用的国产企业，是唯一在清洁、中等、苛刻工艺均实现批量应用的国产企业，有效保障了我国集成电路制造设备关键部件的自主可控和供应链安全。真空科学仪器设备领域，公司先后承担北京正负电子对撞机、兰州重离子加速器、合肥国家同步辐射装置、上海三代光源、北京高能同步辐射光源、上海硬 X 射线自由电子激光装置等 11 项国家重大科技基础设施的建设工作，是我国大科学装置关键真空部件光束线、波荡器、前端区等的最主要研制单位，其中公司作为上海光源主要参与者，于 2013 年获得国家科技进步一等奖。另外，公司前身成功研制了第一台国产分子束外延设备（MBE），打破国外长期禁运，在科研用 MBE 设备研制领域居于国内领先地位。
（二）主要产品及服务情况
公司的主要产品为面向半导体及泛半导体领域用于晶圆制造的干式真空泵，及面向国家重大科技基础设施和科研领域的真空科学仪器设备。同时，公司提供相关技术服务。
（1）先进制造和科研广泛依赖真空技术
与日常生活的大气环境相比，真空是指将特定空间内的气体排出，使得该空间的气压低于一个大气压（1.01325×105 帕）的状态。在真空状态下，单位体积中的气体分子数大量减少，气体分子之间、气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随之减少。真空环境能减少杂质渗入和干扰，实现洁净的生产和科学研究环境。生产领域，真空环境用于避免杂质对材料和成品的污染，提升产品的质量和稳定性；科研领域，真空环境用于避免杂质对实验数据的影响，提升实验结果的准确性与一致性。
真空的上述特性使得真空技术及真空仪器设备被广泛应用于先进制造和科研领域中。半导体、光电器件、电子器件、薄膜制备、表面科学等不同应用场景对真空环境的要求各不相同。根据真空压强范围不同，可将真空划分为低真空、中真空、高真空、超高真空和极高真空等不同真空区域。不同应用场景所需的真空度区域如下图：
（2）不同真空度通过真空泵实现
真空泵根据可工作的压强范围具体分为干式真空泵（105~10-1pa）、分子泵（5~10-6pa）、离子泵（10-2~10-10pa）等。为实现特定的真空度，需采用不同的真空泵种逐级抽气。例如：为使工作环境达到 10-1~10-5pa 的高真空度范围，需由干式真空泵（可直接连接大气）与分子泵（不可直接连接大气）串联工作，即先以干式真空泵作为前级泵将工作环境抽至中低真空（105pa-10-1pa），之后分子泵启动将工作环境进一步抽至目标真空度范围。
（3）真空泵是半导体制造的关键部件
一套完整的半导体生产系统，通常主要由工艺腔室、装载系统、晶圆传送系统、气体输送系统、设备冷却系统、设备加热系统、控制管理系统、真空系统等构成。其中，真空系统主要由真空泵、真空阀、真空表计与真空管道等组成，分别用于真空获得、真空检漏、真空测量。典型的半导体产业真空系统布局如下：
真空泵是半导体制造真空系统的核心关键部件，集成电路产业 15 个主要工艺环节中的 11 个需要使用真空泵实现真空环境的获得，占比超过 70%。具体工艺环节如下图所示：
集成电路生产工艺为微观加工工艺，任何细微的尘埃或气体都会造成工艺缺陷，并通过上百乃至上千道工序放大，影响晶圆性能和良率。因此，集成电路生产需要高度可靠并稳定的洁净真空环境，以确保生产过程中产品不受杂质污染或扰动的影响。
随着集成电路制程逐渐向先进工艺演进，制造的精细度和复杂度显著提升，对洁净真空环境的要求也更加苛刻，越来越多的工序需要移入真空环境中进行，且每道工序所需要的真空泵的数量和技术要求越来越高。例如当先进工艺演进到 7nm 时，必须使用 EUV 光刻技术，与传统光刻技术不同的是，EUV 光刻技术必须在真空环境中才能实现。
2、干式真空泵
（1）干式真空泵是半导体和泛半导体领域主流用泵
真空泵是获得、改善和维持真空的必要装置，而干式真空泵是目前半导体和泛半导体领域主流用泵，特指泵的抽气流道（如泵腔）中不使用任何油类和密封液体并可直排大气的泵。干式真空泵具有清洁、安全、振动小、噪声低、性能稳定等特点，无需像传统油封式机械泵一样使用油或液体进行密封，不会在泵腔中逆流或扩散，避免油类或腐蚀性蒸汽对生产造成的负面影响和安全隐患，能够满足半导体和泛半导体领域对洁净环境的较高要求。干式真空泵可广泛应用于半导体、光伏、锂电、制药等多个领域。
（2）干式真空泵的主要种类
干式真空泵根据机械结构可分为罗茨干泵（包含罗茨和爪型组合结构）、螺杆干泵以及涡旋干泵等。罗茨干泵指具有两个或三个同步反向旋转的叶型转子，转子间、转子与泵壳内壁间有间隙且互不接触的一种旋转式容积真空泵。
罗茨干泵通常采取多级转子结构，即通过单轴连接多段转子，转子可以是多种形式的罗茨转子或罗茨和爪型组合的转子，利用多级真空腔对气体进行反复的压缩来提高真空泵的抽速和极限压力，是无油真空系统达到低真空、中真空、高真空、超高真空、极高真空等所有真空区域均需使用的核心真空泵类型之一。罗茨干泵凭借优异的真空获得性能，适用于半导体领域，也可应用于光伏等泛半导体领域，如管式 PECVD 等。
螺杆干泵含有采用各类型线设计（如锥形或变螺距设计）的同步反向旋转的螺杆转子，是具有内压缩比特性的一种旋转式容积真空泵，在泛半导体领域更适用于光伏领域的拉晶工艺。
涡旋真空干泵主要通过两个相互错开的涡旋盘实现气体的压缩，其结构相对简单、运行可靠，且具有低振动和低噪音的特点，通常适用于实验室、医疗设备以及小型真空系统。
（3）公司干式真空泵产品主要为罗茨干泵，广泛支持国内外主流设备厂商机台
报告期内，公司销售的干式真空泵主要为罗茨干泵。公司研制的罗茨干泵分为三大系列：L 系列主要面向半导体清洁工艺流程，如装载、传输；M 系列主要面向半导体中等工艺流程，如刻蚀、离子注入等；H 系列主要面向半导体苛刻工艺流程，如薄膜沉积等，也可应用于光伏等泛半导体领域的工艺流程，如管式 PECVD 等。公司研制的三大系列近四十款型号干式真空泵产品已实现大批量应用，可适配 ASML、KLA、LAM Research、AMAT、TEL、HITACHI、中微公司、拓荆科技、东方晶源等 30 余家国内外主流设备厂商的数百种机台，全面满足市场多样化需求。截至本招股意向书签署日，公司在研的干式真空泵型号超过 40 项。
公司 L、M、H 系列罗茨干泵的具体情况如下：
公司不同系列罗茨干泵产品应用的半导体工艺制程如下图所示：
除罗茨干泵，报告期内公司成功自主研发螺杆干泵并实现向客户批量交付。此外，报告期内公司销售少量涡旋干泵，涡旋干泵主要应用于科研领域。
3、真空科学仪器设备
公司真空科学仪器设备主要面向国家重大科技基础设施和前沿科学领域研究使用，包括用于薄膜制备的仪器设备（PVD、CVD）和用于重大科技基础设施的高能物理真空装置。
（1）用于薄膜制备的真空科学仪器设备
报告期内，公司的真空薄膜仪器设备产品主要包括 PVD、CVD 设备，主要面向高等院校、科研院所等科研机构进行薄膜材料的研究与小批量制备。
薄膜制备是众多微电子器件、光电器件、半导体材料、超导材料、生物材料等前沿基础科学和产业高端薄膜制备领域中广泛使用的成膜手段。薄膜制备主要将镀膜用材料变为分子或原子形态，通过物理或化学方式形成薄膜。其中，通过物理方法进行薄膜制备为物理气相沉积（PVD），通过化学方法进行薄膜制备为化学气相沉积（CVD）。真空是薄膜制备的基础，真空环境是薄膜形成的必要条件。
自 1979 年成功研发出我国第一台分子束外延（MBE）设备后，公司根据不同客户所用镀膜材料的特性和成膜方法等不同需求，分别研制出激光溅射、热蒸发、电子束与电阻复合蒸发、离子束溅射、磁控溅射等多品种薄膜制备真空科学仪器设备。
（2）用于重大科技基础设施的高能物理真空装置
重大科技基础设施，又称大科学装置，是为实现重要科学技术目标，进行基础研究和科技创新、促进技术变革、提供极限研究手段的大型复杂的科学研究系统。1990 年以后，48%的诺贝尔物理学奖主要应用重大科技基础设施来取得。重大科技基础设施中，正负电子对撞机、高能同步辐射光源、强流重离子加速器等高能物理领域的前沿科学研究必须要在高真空或超高真空环境下才能实现，且任何杂质带来的污染都会导致实验失效，因此必须使用极为精密的真空装置。
公司及前身自 1987 年首次承担北京正负电子对撞机（BEPC）的真空装置以来，在重大科技基础设施领域积累了雄厚的真空技术与强大的真空装置研发创新能力。近年来公司承担了“合肥国家同步辐射光源”、“兰州重离子加速器（HIFL）”、“上海同步辐射光源（SSRF）”、“上海软 X射线（SXFEL）”、“高能同步辐射光源（HEPS）”、“纳米真空互联实验站（NANO-X）”等各类国家实验室中的涉及高真空、超高真空部分的高能物理真空装置等和关键核心部件的研制开发。目前正在进行“上海硬 X 射线自由电子激光（SHINE）”、“合肥先进光源（HALF）”、“武汉第四代光源”、“深圳光源”等项目的研制和预研。
报告期内，公司向高能物理大科学装置提供的产品主要包括前端区、光束线、波荡器、真空互联及传输系统等关键部件。具体如下表所示：
以公司参与研制并获国家科学技术进步奖一等奖的“上海光源国家重大科学工程”为例，公司为该工程 32 条前端区中的 23 条（占比超 70%），34 条光束线中的 18 条（占比超 50%）提供关键技术装备。
另外，公司为北京高能同步辐射光源、上海同步辐射光源、上海硬 X 射线自由电子激光装置等大科学装置研制各类波荡器 90 余台套。
4、维修维护、零部件及其他产品销售
公司维修及维护等服务业务主要是面向半导体及泛半导体、科研领域客户提供干式真空泵、真空科学仪器设备的维修、保养服务。
公司的零部件及其他产品销售业务主要是根据客户需求，为干式真空泵、真空科学仪器设备提供相关的零部件。
（三）主营业务收入构成
二、 行业基本情况
（一）所属行业及确定所属行业的依据
根据《国民经济行业分类（GB/T4754-2017）》，本公司干式真空泵制造业务所属行业为“C34通用设备制造业”大类下的“C344 泵、阀门、压缩机及类似机械制造”中的“C3441 泵及真空设备制造”小类，真空科学仪器设备制造业务所属行业为“C35 专用设备制造业”大类下的“C3599 其他专用设备制造”。
三、行业情况
1、干式真空泵产业发展情况
干式真空泵属于通用设备，可广泛应用于传统硅基集成电路晶圆制造、化合物半导体晶圆制造、太阳能电池片制造、锂电池烘干、显示面板生产、生物制药、化工等多个国民经济支柱产业。报告期内，公司研制的干式真空泵主要向集成电路、光伏产业销售，其他行业销售收入较少。以下主要对集成电路、光伏产业的发展情况及其对干式真空泵产业发展的影响进行分析。
（1）集成电路产业发展情况
①全球集成电路产业稳步增长，我国已成为全球最重要的集成电路市场
集成电路产业作为现代信息产业的基础和核心产业之一，是关系国民经济和社会发展全局的基础性、先导性和战略性产业，在保障国家安全、推动国家经济发展以及社会进步等方面发挥着广泛而重要的作用，是衡量一个国家现代化程度以及综合国力的重要标志。经过 60 余年的发展，集成电路已成为现代日常生活和未来科技进步中必不可少的组成部分。集成电路行业下游应用广泛，包括消费电子、数字图像、网络通信、云计算、大数据、人工智能等。
全球半导体贸易统计组织（WSTS）统计数据显示，2016 年至 2024 年期间，全球集成电路行业市场规模由 2,767 亿美元增至 5,395 亿美元，年均复合增长率为 8.70%，呈稳步增长态势。随着存储芯片市场的强劲复苏，以及逻辑、模拟芯片的稳步增长，WSTS 预计 2025 年全球集成电路市场规模将增至 6,779 亿美元，较 2024 年大幅增长 25.65%。WSTS 同时预计 2026 全球集成电路市场规模将大幅增长 28.97%至 8,743 亿美元。
我国大陆集成电路产业起步较晚，但近年来发展迅速，行业增速领先全球。在国家及地方各级政府部门多项产业政策的支持、国家集成电路产业投资基金和各地方专项扶持基金的推动，以及社会各界的共同努力下，我国集成电路产业规模从弱小到壮大，企业创新能力逐步提升，已经在全球集成电路产业中占据重要地位，在部分细分领域初步具备了国际领先的技术和研发水平。中国半导体行业协会（CSIA）统计数据显示，2023 年中国大陆集成电路产业销售额达 12,277 亿元，2016 年至 2023 年产业收入年复合增长率达 16.03%。
②集成电路设备产业规模持续稳步增长，我国晶圆产能快速增加促进设备增速需求快于全球
全球集成电路产业长期稳步增长，带动相关制造设备需求持续扩张。根据 SEMI 统计数据，全球晶圆厂设备销售额近年来总体保持增长态势，并于 2024 年实现创纪录的 1,042.7 亿美元。主要因存储和 HBM 的的投资强于预期，SEMI 预计 2025 年晶圆厂设备销售额将增长至 1,157.0 亿美元，增幅为 10.96%。随着晶圆厂新项目开工、产能扩张及技术迁移，SEMI 预计 2026 年、2027 年晶圆厂设备销售额将再分别增长 9.0%和 7.3%，达 1,352.0 亿美元。
受益于我国庞大的集成电路市场规模，以及在该领域的大量投资和产业政策支持，近年来我国晶圆厂建设及产能扩张加快，自 2020 年以来我国已连续四年成为全球最大的半导体设备市场，占比达 30%。SEMI 统计数据显示，2024 年我国半导体设备市场规模达 495.5 亿美元，2020-2024 年均复合增长率达 27.55%。
（2）光伏产业发展情况
中国光伏行业协会（CPIA）统计数据显示：全球光伏年新增装机容量从 2020 年的 130GW 增至2024 年的 530GW，年均复合增长率达 42.10%。根据国际能源署（IEA）在《2024 年可再生能源分析与展望》中的预测，2030 年全球光伏新增装机容量在各种电源形式中的占比将达到 70%。未来在光伏发电成本持续下降和新兴市场需求增长等有利因素的推动下，全球光伏新增装机仍将持续增长。
中国光伏行业协会（CPIA）统计数据显示，我国光伏年新增装机容量从 2020 年的 48.2GW 增至 2024 年的 277.57GW，年均复合增长率达 54.91%。另外，在光伏新增装机容量，以及多晶硅、硅片、电池片组件产量同比增长的同时，2024 年多晶硅、硅片、电池片组件的价格下滑，光伏产品出口额下降。因此，CPIA 预计 2025 年我国光伏新增装机容量可能下滑至约 200-250GW。受益于产业政策推动、技术持续进步和成本不断下降，我国光伏产业中长期仍将持续向好，CPIA 预计 2030年我国光伏新增装机容量将达 280-300GW。
能源向低碳、零碳方向发展对光伏发电需求巨大，同时我国在多晶硅、硅片、电池片、组件的产能方面占据全球领先的市场份额，因此我国光伏产业发展对包括干式真空泵在内的光伏设备存在持续、大量的需求。根据 CPIA 数据，2022 年全球光伏设备销售收入达 95 亿美元，较 2013 年的 17.5亿美元增长 442.86%，年复合增长率达 20.68%。
（3）干式真空泵产业发展情况
①干式真空泵产业的发展进程
工业领域，在中低真空度范围内，早期主要使用油封式机械泵构建组成真空系统，但该类真空系统由于泵内含油，因而存在明显缺陷：不适宜在含氧气量过高、有爆炸性、有腐蚀性、对泵油起化学反应、存在颗粒尘埃的环境下工作。
半导体产品制造过程中所需的真空系统，需要具备抽除腐蚀性气体、粉尘颗粒物、有毒气体等功能，因此油封式机械泵无法满足半导体产业的需要。受半导体产业的驱动，干式真空泵于 20 世纪 80 年代出现，伴随着下游集成电路、光伏、LED 等行业的持续发展进步，干式真空泵的产品类型不断增加，性能、控制集成度等指标参数显著改善。截至目前，发达国家的半导体相关产业已全部使用干式真空泵，我国近年来也呈现明显的干式真空泵替代油泵的趋势，新增产能已基本使用干式真空泵。
除半导体产业以外，制药、化工、食品行业对真空泵的需求较大，以往使用油封式机械泵会产生油污染。近年来各国对环境保护高度重视、严格监管，由于干式真空泵能够显著减少油污染，且使用干式真空泵可实现溶媒回收提高利用率，因此制药、化工、食品等行业对干式真空泵产生了大量新增以及替代原有存量油封式机械泵的需求。
②干式真空泵市场规模
报告期内，公司的干式真空泵产品主要面向集成电路和光伏产业。除集成电路和光伏外，干式真空泵作为通用设备，由于其具备良好的洁净真空特性，因而在 LED 产业的外延片生长和芯片制造，平板显示产业 PVD 等工艺环节，锂电池注液、烘烤等工序，以及化工制药的蒸馏、过滤、干燥等工艺也被广泛使用，报告期内公司在以上产业中尚未进行大量销售。
A、集成电路领域干式真空泵市场规模
干式真空泵是集成电路各制程中实现真空环境所必需的零部件，集成电路产业 15 个主要工艺环节中的 11 个需要使用干式真空泵。受益于近年来集成电路产业的稳定增长，干式真空泵产业也保持着良好的发展态势。以 12 英寸晶圆生产线为例，业内通常每 6 万片/月产能需要约 3,500 台干式真空泵。SEMI《世界晶圆厂预测报告》统计数据显示，2023 年全球晶圆产能约当 12 英寸为 1,316万片/月，较 2022 年增长约 68 万片/月。据此测算，包括新增产能对干式真空泵的采购需求以及原有产能对干式真空泵的替换需求，2023 年全球集成电路产业对干式真空泵的需求为 11.27 万台，按单台泵均价 10 万元测算，全球市场规模约 112.75 亿元。同时，SEMI 预计 2024 年全球晶圆产能较2023 年增长 84 万片/月。据此测算，2024 年全球集成电路产业对干式真空泵的需求为 12.57 万台，市场规模约 125.74 亿元。
由于我国是全球集成电路产业最主要的市场之一，以及我国政府大力支持相关领域发展，近年来我国集成电路制造能力迅速提升。SEMI《世界晶圆厂预测报告》统计数据显示，2023 年中国大陆晶圆产能约当 12 英寸为 338 万片/月，较 2022 年增长约 36 万片/月。据此测算，包括新增产能对干式真空泵的采购需求以及原有产能对干式真空泵的替换需求，2023 年中国大陆集成电路产业对干式真空泵的需求为 3.87 万台，按单台泵均价 10 万元测算，市场规模约 38.70 亿元。同时，根据 SEMI预计 2024 年中国大陆晶圆产能较 2023 年增长 15%，月产能增加 56 万片/月。据此测算，2024 年中国大陆集成电路产业对干式真空泵的需求为 5.21 万台，市场规模约 52.11 亿元。
B、光伏领域干式真空泵市场规模
晶硅太阳能电池生产过程中，拉晶工艺和电池片制造工序需要干式真空泵提供真空环境。据iVacuum 真空聚焦数据显示，业界通常 1GW 的光伏单晶产能大概需要 80-100 台真空主泵，1GW 的电池片产能需要 60-70 台真空泵。根据 CPIA《2023-2024 年中国光伏产业年度报告》，2023 年度我国单晶、电池片产能分别为 953.6GW、929.9GW，2024 年度我国单晶、电池片产能分别为 1,348.8GW、1,302.6GW。据此测算，包括新增产能对干式真空泵的采购需求以及原有产能对干式真空泵的替换需求，2024 年我国光伏产业对干式真空泵的需求约 6.7-8.2 万台，按单台均价 7 万元估算，市场规模约 47.0-57.2 亿元。
③干式真空泵的市场格局
干式真空泵对性能的可靠性、稳定性要求极高，需要在大量的实际工艺环境中不断改进提升。全球领先的供应商如英国 Edwards、日本 Ebara 均成立超过百年，在真空技术领域拥有数十年的研发、制造经验，产品伴随着集成电路产业的发展不断更新换代，积累了大量产品设计和技术工艺。我国对干式真空泵的研制起步较晚，产业基础相对薄弱，虽然近年来以本公司为代表的国产供应商在技术水平、产品性能、规格型号丰富程度、产能等方面均实现了显著提升，但与国际领先厂商相比仍存在一定差距。
全球集成电路用干式真空泵市场，英国 Edwards、日本 Ebara、日本 Kashiyama 等少数几家外资企业占据大部分市场份额，国内厂商市场份额较低。受益于本公司多年以来在该领域的持续研发创新，以及“02 专项”等国家政策大力推动，本公司在我国集成电路市场中占据了一定市场份额，且份额持续提升。公司是集成电路领域干式真空泵出货量最大的国产企业，是唯一在集成电路先进制程实现干式真空泵批量交付的国产企业，是唯一在清洁、中等、苛刻工艺均实现干式真空泵批量交付的国产企业。
2、真空科学仪器设备产业发展情况
（1）科研仪器产业发展情况
我国高度重视科技创新工作，近年来出台了一系列鼓励研发和创新的政策举措，全社会研发投入保持高速增长态势，为高质量发展提供了重要科技支撑。2024 年我国全社会研发投入达 36,130亿元，是全球第二大研发经费投入经济体，较 2023 年增长了 8.31%，2015-2024 年复合增长率为10.96%。从投入强度看，我国研发投入占 GDP 比重从 2012 年的 1.91%持续提高到 2024 年的 2.7%，已处于发展中国家前列。
加强基础研究，是我国实现高水平科技自立自强的迫切要求，是建设世界科技强国的必由之路。2022 年我国基础研究经费首次突破 2,000 亿元，2025 年达 2,778 亿元，2015-2025 年复合增长率为14.52%，2025 年占研发总投入的比重为 7.08%，连续 7 年保持 6%以上，极大推动了我国原始创新能力提升。我国科技经费投入快速增长有力支撑了创新型国家建设，但在研发经费投入强度、基础研究经费占比等方面仍与世界科技强国建设要求存在一定差距。
数据来源：国家统计局《全国科技经费投入统计公报》
科学仪器行业是现代工业的重要支撑，科学仪器的创新、制造和应用水平反映了一个国家的科学技术和工业发展的实力。科学仪器的发展和创新是催生科技创新的重要要素，各行业的研究成果均离不开先进的科学仪器，或与新仪器的采用或功能发展直接相关。近年来，我国企业研发部门、高校、科研院所等各类科研机构数量和规模的快速增长，以及研发经费的持续大规模投入，显著地促进了对各类科学仪器的需求。根据智研咨询统计，2023 年我国科学仪器行业市场规模为 3,549.10亿元，占研发总投入的比重超过 10%。未来，随着基础研究的持续深入与研发经费持续增长，预计将带动相关科学仪器的需求快速增长，为科学仪器市场提供更为广阔的发展空间。
与此同时，虽然近年来我国对国产仪器仪表给予了大量政策支持，过往被外资垄断的局面已逐渐被打破，国产科学仪器在部分细分领域竞争力有所提升。但总体而言，国产仪器仅在低端产品领域占据一定份额，但在高端仪器领域，受限于技术积累、人才储备以及高强度研发投入等因素，国产仪器与进口仪器在技术先进性、产品质量等方面仍存在一定差距，高端市场仍主要被外资厂商占据。
另外，美国等发达国家将科学仪器产业定位为高端制造业、高保密行业和战略性产业，对科研仪器的整机、零部件执行严格的出口管制，不仅影响着我国科研仪器的贸易、采购、运行、研发和使用，进而制约我国在科学研究、工业制造、军事发展等方面的深度和水平。对此，国家大力鼓励科研仪器设备的研制与自主化，以尽早实现这一关键领域的自主可控。
（2）真空科学仪器设备产业发展情况
①国家重大科技基础设施
国家重大科技基础设施又称大科学装置，是推动科技创新、开展基础科学研究、突破关键核心技术的重要手段，在我国的科技布局中扮演重要角色，为我国诸多重大成果的突破和建设科技强国提供强有力的支撑，是国家科技发展水平，尤其是基础研究发展水平的重要标志，也是国家综合国力的体现。我国从上世纪 80 年代启动重大科技基础设施建设，1990 年建成运行的北京正负电子对撞机工程，是我国重大科技基础设施建设的重要开端。20 世纪 90 年代，兰州重离子加速器、合肥同步辐射装置等设施相继建成，重大科技基础设施建设开始向多学科领域扩展。截至 2023 年底，我国已经布局建设 77 个国家重大科技基础设施，其中的 35 个已建成运行，部分设施已经迈入全球第一方阵。
“十一五”之后，我国形成了按“五年计划”推进重大科技基础设施建设的局面，设施建设加速发展，设施建设和开放共享水平大幅提升，科研产出能力不断提高。2013 年，国务院颁布《国家重大科技基础设施建设中长期规划（2012-2030 年）》，提出通过健全管理制度、保障资金投入、强化开放共享、协同推进预研、加强人才培养、促进国际合作等多种保障措施，到 2030 年基本建成布局完整、技术先进、运行高效、支撑有力的重大科技基础设施体系。“十二五”期间我国启动建设了 15 项设施，“十三五”期间启动建设了高能同步辐射光源、硬 X 射线自由电子激光装置等 9项设施。根据规划，“十四五”期间，我国拟新建高能同步辐射光源、硬 X 射线自由电子激光装置、强流重离子加速器装置等大科学装置约 20 项，我国大科学装置建设迎来实现历史性跨越的快速发展期。
②真空镀膜设备
国内真空科研薄膜仪器设备经过数十年的发展，门类现已较为齐全，主要分为 PVD 和 CVD，其中 PVD 主要包括热蒸发沉积、溅射沉积、离子镀和分子束外延等，化学气相沉积可分为等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、金属有机化合物化学气相沉积技术（MOCVD）、激光化学气相沉积（LCVD）等。科研用真空镀膜设备广泛应用于电子、机械、光学、能源等学科，在基础科学发现、技术创新等方面具有巨大的市场需求。
PVD 技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域，可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰、导电、绝缘、光导、压电、磁性、润滑、超导等特性的膜层。CVD 技术应用于耐磨耐热耐腐蚀材料、宇航工业的特殊复合材料、原子反应堆材料及生物医用材料等领域，而且被广泛应用于制备与合成各种粉体材料、块体材料、新晶体材料、陶瓷纤维及金刚石薄膜等。在作为大规模集成电路技术需要的铁电材料、绝缘材料、磁性材料、光电子材料的薄膜制备技术方面不可或缺。
四、竞争对手
1、行业竞争格局
（1）干式真空泵市场竞争格局
在集成电路领域，干式真空泵市场主要被 Edwards、Ebara、Kashiyama 等少数几家欧洲和日本企业占据，市场集中度较高。上述企业成立时间较早，产品种类较全，技术实力突出，生产规模较大，产品在半导体和泛半导体、工业制造、生物制药等各领域均有广泛应用，目前在国内市场也占据主导地位。以发行人为代表的国内干式真空泵厂商起步较晚，目前与国际领先企业相比，在品牌影响力、产能规模、应用场景覆盖度等方面仍存在一定差距。截至目前，发行人是集成电路领域出货量最大的国产干式真空泵制造企业，是唯一在集成电路先进制程实现批量应用的国产企业，2024年发行人在集成电路领域的干式真空泵收入为 6.63 亿元，根据 2024 年预计市场数据推算，发行人2024 年在国内半导体领域市占率约为 12.72%。
在光伏领域，目前国内光伏产业干式真空泵市场基本由国产厂商覆盖，国产干式真空泵厂商凭借更高的产品性价比与更灵活的服务方式，具备一定的本土优势，主要厂商包括发行人、汉钟精机、鲍斯股份、通嘉科技等。
（2）真空科学仪器设备市场竞争格局
在真空科学仪器设备领域，公司在国内市场竞争优势突出、市场份额较高，主要竞争对手为美国行业领先企业 Veeco、KJLC。
四、竞争对手
1、行业竞争格局
（1）干式真空泵市场竞争格局
在集成电路领域，干式真空泵市场主要被 Edwards、Ebara、Kashiyama 等少数几家欧洲和日本企业占据，市场集中度较高。上述企业成立时间较早，产品种类较全，技术实力突出，生产规模较大，产品在半导体和泛半导体、工业制造、生物制药等各领域均有广泛应用，目前在国内市场也占据主导地位。以发行人为代表的国内干式真空泵厂商起步较晚，目前与国际领先企业相比，在品牌影响力、产能规模、应用场景覆盖度等方面仍存在一定差距。截至目前，发行人是集成电路领域出货量最大的国产干式真空泵制造企业，是唯一在集成电路先进制程实现批量应用的国产企业，2024年发行人在集成电路领域的干式真空泵收入为 6.63 亿元，根据 2024 年预计市场数据推算，发行人2024 年在国内半导体领域市占率约为 12.72%。
在光伏领域，目前国内光伏产业干式真空泵市场基本由国产厂商覆盖，国产干式真空泵厂商凭借更高的产品性价比与更灵活的服务方式，具备一定的本土优势，主要厂商包括发行人、汉钟精机、鲍斯股份、通嘉科技等。
（2）真空科学仪器设备市场竞争格局
在真空科学仪器设备领域，公司在国内市场竞争优势突出、市场份额较高，主要竞争对手为美国行业领先企业 Veeco、KJLC。
2、行业内主要企业
（1）干式真空泵
干式真空泵制造业的主要企业包括 Edwards、Ebara、Kashiyama 和通嘉科技。简要情况如下：
（2）真空科学仪器设备
面向科研领域的真空科学仪器设备主要企业包括 Veeco、KJLC，具体情况如下：
3、发行人的市场地位
（1）干式真空泵
（2）真空科学仪器设备
真空薄膜仪器领域，公司的产品性能指标以及设计制造能力居于国内领先地位，主要与行业头部企业美国的 Veeco、KJLC 进行竞争。大科学工程领域，公司是同步辐射光源机械真空领域的最主要供应商，承接了上海同步辐射光源 32 条前端区中的 23 条（占比超 70%）、34 条光束线中的 18条（占比超 50%），北京高能同步辐射光源一期 15 条前端区中的 12 条（占比 80%），合肥先进光源一期 11 条前端区（共 11 条）和储存环中全部铜真空室，以及各类光源中近百台套波荡器的研制、加工、集成、磁测垫补工作，技术达到国际先进水平，部分关键部件实现自主可控，其中公司作为“上海光源国家重大科学工程”的参与单位获 2013 年“国家科学技术进步奖一等奖”。
五、发行人报告期的主要财务数据及财务指标
2025年度
2024年度
营业总收入(元)
12.91亿
10.82亿
净利润(元)
8.44亿
1.93亿
扣非净利润(元)
1.03亿
8787.75万
发行股数 不超过量5,200.00 万股，超额配售选择权:
发行后总股本不超过过于22,383.91 万股
行业市盈率:40.80倍(2026.4.11数据)
同行业可比公司静态市盈率估值(不扣非):25.11(汉中精机)、21.35(鲍斯股份)去除极值23.23
同行业可比公司静态市盈率估值(不扣非):15.21(汉中精机)、5.51(鲍斯股份)去除极值15.21
公司EPS静态不扣非:0.86
公司EPS静态扣非:0.39
公司EPS动态不扣非:3.77
公司EPS动态不扣非:0.46
公司EPSTTM不扣非:-
公司EPSTTM扣非:-
拟募集资金82,548.33万元,募集资金需要发行价:15.87元，实际募集资金:8.43亿元。
募集资金用途:1智能制造装备扩产项目2研发中心建设项目 3偿还银行贷款 4补充流动资金
4月发行新股数量5支。3月发行新股数量5支。今年总共发行21只。
机械设备 -- 通用设备 -- 其他通用设备
所属地域：辽宁省
主营业务：干式真空泵和真空科学仪器设备的研发、生产、销售并提供相关技术服务。
产品名称：干式真空泵、真空科学仪器设备、维修及维护等服务、零部件及其他产品销售
控股股东：国科科仪控股有限公司
(持有中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司股份比例：35.21% )
实际控制人：中国科学院控股有限公司
(持有中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司股份比例：35.21%)
是否有战略配售:
股是否有保荐公司跟投:
(北交所)
行业市盈率预估发行价:15.91元，可比公司预估市盈率发行价静态:9.06元，可比公司预估市盈率发行价动态:5.93。
实际发行价:16.21元发行流通市值:8.43亿,发行总市值:36.28亿。
价格区间:7.00元,最高:7.00元,最低:7.00元.是否有炒作价值:
动态行业市盈率预估发行价:153.82元。
上市首日市盈率:35.24(动)、(TTM)倍.行业市盈率是否高估: 否 可比公司市盈率是否高估:否
公司EPS动态不扣非:0.46公司EPSTTM不扣非:
预计一季报业绩：净利润1.150亿元至1.250亿元，增长幅度为5.96倍至6.57倍EPS9.62PE
是否建议申购:老股数量为4873.05万，1手保守450万，顶格理论上可以4手。
行业:、
关键字:公司是一家专业从事智能自动化设备、智能柔性生产线、配件及耗材的研发、生产及销售的高新技术企业，致力于为全球消费电子、新能源、泛半导体等领域提供精密、稳定、可靠的智能制造解决方案。
（1）智能自动化设备1高速在线式贴装设备2高速在线式点胶设备3高 精 度FPC/PCB 贴装设备4 自动保压机5全自动芯片植散热片机
（2）智能柔性生产线1FPC 全制程自动线2消费电子锂电池组装产线3新能源车载继电器装配线4储能自动线电芯段
（3）配件及耗材→模切材料、光伏追踪控制板。
智能制造装备领域竞争对手:博众精工、赛腾股份、佰奥智能、强瑞技术、锐翔智能、鸿仕达。
发行公告可比公司:博众精工、赛腾股份、佰奥智能、强瑞技术、锐翔智能、鸿仕达。
发行价:16.57元，溢价率247.08%，TTM%，实际开盘%。 0(强瑞技术)去除极值55.91
同行业可比公司静态市盈率估值(不扣非):70.27(博众精工)、22.46(赛腾股份)、200.62(佰奥智能)、176.82(强瑞技术)去除极值46.37
公司EPS静态不扣非:0.93
公司EPS静态扣非:0.90
公司EPS动态不扣非:1.24
公司EPS动态不扣非:1.11
公司EPSTTM不扣非:-
公司EPSTTM扣非:-
拟募集资金21,695.31万元,募集资金需要发行价:16.07元，实际募集资金:2.24亿元。
募集资金用途:1智能制造装备扩产项目2研发中心建设项目 3偿还银行贷款 4补充流动资金
4月发行新股数量4支。3月发行新股数量5支。今年总共发行20只。
机械设备 -- 自动化设备 -- 其他自动化设备
所属地域：江苏省
主营业务:智能自动化设备、智能柔性生产线、配件及耗材等产品的研发、生产与销售。
产品名称：高速在线式贴装设备、高精度智能FPC贴装设备、高速在线式点胶设备、喷码设备、镭雕设备、定板/植板设备、炉前/炉后压拆盖设备、吸嘴搬运检测存取设备、离子清洗设备、智能光学检测设备、智能功能检测设备、SMT自动化生产线、声学部件组装产线、消费电子振动马达组装产线、消费电子锂电池组装产线、新能源汽车充电机智能装配生产线、储能电池包生产线、模切材料
控股股东：胡海东
(持有昆山鸿仕达智能科技股份有限公司股份比例：55.46% )
(持有昆山鸿仕达智能科技股份有限公司股份比例：55.46%)
是否有战略配售:
股是否有保荐公司跟投:
(北交所)
行业市盈率预估发行价:36.79元，可比公司预估市盈率发行价静态:50.32元，可比公司预估市盈率发行价动态:41.73元。
实际发行价:16.21元发行流通市值:2.24亿,发行总市值:36.28亿。
价格区间:57.50元,最高:87.13元,最低:27.85元.是否有炒作价值:
动态行业市盈率预估发行价:元。
上市首日市盈率:13.07(动)、(TTM)倍.行业市盈率是否高估: 否 可比公司市盈率是否高估:否
公司EPS动态不扣非:1.24公司EPSTTM不扣非:
预计2026-01-01到2026-03-31业绩：净利润168.16万元至516.64万元,增长幅度为193.52%至387.30%EPS0.37PE44.78
是否建议申购:老股数量为433.15万，1手保守700万，顶格理论上可以2手。
行业:干式真空泵产业、真空科学仪器设备行业。
关键字:公司是中国领先的半导体制造设备核心部件提供商及真空科学仪器设备供应商，主营业务为干式真空泵和真空科学仪器设备的研发、生产、销售，及相关技术服务。
1、真空技术概述2、干式真空泵3、真空科学仪器设备4、维修维护、零部件及其他产品销售
集成电路干式真空泵领域竞争对手: Edwards、Ebara、Kashiyama、中科仪。
光伏干式真空泵领域竞争对手:汉钟精机、鲍斯股份、通嘉科技、中科仪。
真空科学仪器设备领域竞争对手:Veeco、KJLC、中科仪。
发行价:16.21元，溢价率186.06%，TTM%，实际开盘%。
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