华为芯片新方案推动氧化铝需求激增,富乐德:高端氮化铝DPC量产

2026-05-27 13:03:441

富乐德301297:国内唯一同时掌握高端氮化铝陶瓷基板DPC+氮化硅AMB量产能力的企业。



华为芯片新方案推升封装级散热需求,高端氮化铝(AlN)粉体需求激增。


新方案的芯片和封装结构紧凑,单位面积发热集中,推动封装级散热材料向高导热、电绝缘、低CTE升级。氮化铝陶瓷材料兼具高导热、电绝缘和低CTE,适配先进封装、AI服务器、1.6/3.2T光模块和功率器件等高功率散热场景,高端AlN粉体作为上游基础材料,需求量激增。



富乐德301297:国内唯一同时掌握高端氮化铝陶瓷基板DPC+氮化硅AMB 量产能力的企业。公司自研高纯氮化铝粉体是日本德山卡脖子环节,纯度高达99.92%,打破国外垄断,是国内唯一全链条、全球第一梯队高端氮化铝基板供应商,已批量用于800G光模块TEC,1.6T正送样,深度绑定中际旭创等国内头部光模块企业。





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