聚焦碳化硅(SiC)赛道,本文拆解底层材料环节的供需变量与全球晶圆代工厂商的扩产节点。
一、三星8英寸产线重启与设备导入节点
6月14日,韩国将下一代功率半导体列为核心战略产业。三星电子晶圆代工业务正在推进8英寸碳化硅(SiC)生产线的建设重启。目前该厂商已与材料、组件及设备供应商展开磋商,进度已触及设备导入规模的量化评估阶段。
二、台积电12英寸中介层订单与交付排期
针对传统微缩技术瓶颈,头部晶圆代工厂正着手从材料层面寻找突破,当前布局覆盖氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)、磷化铟(InP)三大物理基材主线。
台积电已向特定企业提出明确的12英寸中介层SiC衬底需求,时间线显示将于今年开启交付,且2025年对应订单需求量呈翻倍预期。
三、2025年85亿元衬底基盘与海外映射
受算力基建发展驱动,碳化硅衬底的真实需求体量正快速扩张,产业端基准测算2025年对应衬底市场规模达85亿元。
海外同业映射标的英飞凌、意法半导体、安森美及Wolfspeed近期受产业端进展催化,二级市场资金交投活跃。
四、行业观察
当前国内碳化硅产业链各节点相关企业落位如下:
芯片器件环节:
新洁能、芯联集成、士兰微、扬杰科技、宏微科技、时代电气
风险提示:应用推进不及预期,行业竞争加剧。
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