超级低位的洁净室设备
● 半导体工艺应用：使用超高浓度臭氧（80-150ppm水溶液，200-300mg/L气体）作为工艺介质，主要目的是清洗、氧化和薄膜沉积。
● 国林科技作为国内唯一实现半导体级臭氧设备量产的企业，其设备在半导体洁净室环境中发挥着关键作用，通过提供高浓度、超纯净的臭氧，支持先进制程的实施，同时其技术性能已基本对标美国MKS、德国安索罗斯等国际巨头。
主要还是市值小，盘子小，国产替代空间大，同时还有商业航天设备、先进封装设备、光伏异质结设备多领域开花，并购的高纯度乙醛酸项目受益于全球化工产品涨价，26到27年会有持续正向贡献，从预测业绩看目前看对应仅有个位数PE，值得长期关注
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