🍁今日外媒对中国国产DUV新闻刷爆，确实，受算力需求激增与半导体自主可控提速双重驱动，国产gkj 产业迎来历史性爆发。在传统前道光刻受制于人的背景下，gkj国产化正从零部件向整机、从后道封装向高阶IC载板与先进封装（CoWoS/2.5D）快速渗透。
🍁菲沃泰卡位DUV浸润式gkj核心耗材，成为目前国内浸润式DUV 抗紫外防水镀膜的唯一供应商，该业务2026年2月起正式量产供货，截至目前有2000多万订单，这样看今年年化就至少可以看到5000万+，并且该膜层为耗材，#每3-4个月需要更换一次。
🍁直写光刻（无掩模曝光）凭免光罩、高灵活度及高对位精度等优势，正加速替代传统曝光机，成为高阶PCB、IC载板及先进封装（CoWoS-L/RDL）的核心解法。芯碁微装作为微纳直写龙头，公司高端LDI设备攻克3-4μm高解析度技术，WLP系列晶圆级直写设备助力头部厂商实现类CoWoS-L产品量产。苏大维格具备激光直写与投影/扫描光刻全套技术，核心零部件实现100%国产化；向先进封装曝光、IC掩模版及AR微纳光学等高附加值领域延伸。
🍁安孚科技凭充沛现金流战投切入光刻光源核心零部件赛道。安孚科技持股10%华昇迈，设立合资公司安孚华昇迈（安孚持股60%），精准卡位准分子激光器等光刻光源及高精度检测光源零部件研发制造。
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