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核心催化
海外EVG大力推广纳米压印光刻 (NIL)技术，用于光子集成电路、激光器批量制造，成为光芯片、光子集成的新一代制造路线。EVG通过晶圆键合、纳米压印光刻及薄晶圆加工技术组合，为光栅耦合器、垂直光学耦合元件提供可规模化制造方案，同时借助NILPhotonics®能力中心，帮助客户在接近量产的环境中开发工艺，加速从研发到大批量生产的转移。
中光学（002189）
2025 年报明确披露，公司正在开展晶圆级光学超表面纳米压印光刻技术开发，完成8 寸晶圆基底上衍射光波导纳米压印、50nm 线宽金属线栅微结构纳米压印工艺验证，瞄准光刻环节国产替代。
⚡一句话逻辑：EVG在海外把NIL推向量产，中光学在国内同步完成8英寸晶圆级验证——光子集成制造路线的国产替代窗口正在打开。
投资亮点
1、
纳米压印光刻工艺已完成小试工艺验证
攻克纳米压印制备掩膜层技术，实现8 英寸晶圆级工艺验证，可用于AR 衍射光波导、金属线栅偏振片；纳米压印路线相比传统光刻，具备高精度、低成本、适合大批量制造的优势，适配光子集成电路、光器件制造方向。
2、AR 光波导 + 微纳光学双赛道布局
以金属线栅偏振片、衍射光波导为核心载体，微纳光学可应用
AR 显示、红外成像、偏振探测。公司已在互动平台明确表示，可量产光波导、精密光学模组等核心产品，适配AR穿戴、车载、工业显示等应用场景，目前已对接下游客户开展验证及小批量供货。
金属线栅偏振器攻克母版设计、真空镀膜、纳米压印全套技术，强化 LCoS、LCD 投影核心竞争力。微纳光学方面，以几何/衍射光波导与金属线栅为代表的新型器件快速发展，通过亚波长结构实现对光场的精细调控，成为突破传统光学瓶颈的重要方向。随着纳米压印与大面积制造能力提升，微纳光学正由实验验证向工程化应用过渡，广泛应用于AR显示、红外成像及偏振探测等领域，呈现高技术门槛与高附加值特征。
3、卡脖子环节国产替代逻辑
纳米压印光刻是光子芯片、光通信器件重要制造手段，公司项目目标实现光刻环节替代，抢占微纳光学器件新市场，贴合国内光子集成产业发展大方向。国内初创公司璞璘科技已成功利用NIL技术在8英寸晶圆上完成光子芯片量产验证，完全绕开DUV光刻路线，芯片制造成本压缩至传统方案的十分之一。中光学在8英寸晶圆上已完成50nm线宽工艺验证，技术路径与行业趋势高度吻合。
4、小盘弹性标的，题材辨识度高
中光学（002189），市值体量偏小；同时覆盖光通信新技术、光子集成、AR 光波导多重热门题材，事件驱动下资金弹性充足。2026年公司统筹推进“3040”攻坚工程，部署十大专项行动，细分为75项具体任务，聚焦微纳光学、车载光电等关键领域精准投入。
控股股东中国兵器装备集团于2026年2月宣布筹划重组，后续资产整合预期值得关注。
财务边际改善信号：2025年营业收入15.02亿元，同比下降15.85%；归母净利润-2.25亿元，同比减亏39.07%；经营活动现金净流入1114.69万元，同比大幅增长104.50%，实现由负转正，经营现金流显著改善。
📌核心看点总结：
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✅8英寸晶圆50nm线宽金属线栅NIL工艺验证完成，小试阶段
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✅AR衍射光波导已对接客户验证及小批量供货
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✅NIL成本仅为传统DUV方案的约1/10
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全年研发投入0.90亿元，研发强度
6%
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经营现金流转正，同比改善104.50%
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控股股东兵装集团
筹划重组，资产整合预期
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