苏大维格（300331）成立于2001年，2012年在深交所上市，是国内领先的微纳结构产品制造商和技术服务商。
公司核心竞争力在于自主研发微纳光学关键制造设备，包括激光直写光刻机和纳米压印光刻机。其紫外三维直写光刻机被称为“微纳世界的打印机”，而120吋紫外三维直写光刻装备更填补了国内空白。
近期，苏大维格在半导体领域布局加速。2026年初完成对常州维普半导体的收购并表，后者是国内极少数实现半导体掩模缺陷检测设备规模化量产的企业。2026年3月，公司在SEMICON China上全球首发先进封装数字光刻系统，打造“光刻+检测”全链条闭环。业绩方面，2026年上半年预计归母净利润同比增长58%至105%。
与此同时，国内光刻机产业也传来重大进展。据报道，中国已开始生产自主研发的DUV光刻机，预计年内交付给中芯国际、华虹半导体等主要芯片制造商。今年计划交付约5台，明年目标增至20台。虽然设备性能和可靠性仍落后于ASML，但这标志着国产光刻装备迈出了关键一步。
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