米莱芯程(联合化学参股37.28%)调研概况：民营国产光刻机首台下线
米莱芯程创始人兼总经理高安在展会前接受21世纪经济报道采访时表示，光刻机的技术难点分为整机层面和分系统（零部件）层面。过去二十多年，国内光刻机发展主要受制于这两点。
“国内做光刻机的公司很多，但真正能出货的很少。”高安指出，米莱芯程计划先从相对基础的i-line光刻机做起，逐步切入KrF（248nm）光刻机、ArF（193nm）干式光刻机、ArF（193nm）浸没式光刻机。“我们团队的骨干人员原来基本都做过浸没式光刻机，在这四款产品上的经验可以沿用。”
在产品路线上，我们规划从i-line光刻机起步，继而研制KrF（248nm）光刻机，之后逐步过渡到ArF（193nm）光刻机，涵盖干式和浸没式两种类型。
时间方面，我们计划今年年内发布首款i-line光刻机；明年起陆续发布KrF光刻机、ArF干式光刻机、ArF浸没式光刻机。
目前，我们的i-line光刻机已进入最终调试阶段；KrF光刻机基本完成初步设计，进入投料阶段；ArF光刻机处于早期关键技术攻关阶段。
此外，我们也留有拓展空间：向低精度方向，可延伸至封装类光刻机；向高精度方向，可攻关EUV光刻机。不过，我们会跳过EUV，探索基于新原理的光刻方法，直接攻关更先进制程的光刻机。美国某光刻技术初创公司目前就在探索新原理光刻方向，我们也会同步开展研发。
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