据TheElec报道,包括三星电子、SK海力士在内的半导体客户已收到日本供应商通知,称其:韩国分公司在光刻胶等产品原材料的采购环节已出现中断。业内人士透露,他们于昨晚(21日)接到相关消息,日本公司目前正在召开内部会议,并计划于明日(23日)正式向韩国客户发出通知。
目前短缺的原料是丙二醇甲醚(PGME)和丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA),两者可用作多种电子材料的溶剂(用于溶解其他物质的液体或气体)
在半导体产业链中,部分材料如光刻胶、抗反射涂层(BARC)、旋涂硬掩模(SOH)以及用于高带宽存储器(HBM)的临时粘合剂,均需要用到PGME和PGMEA。向三星电子和SK海力士供应上述材料的日本公司有很多,包括信越化学工业株式会社、东京樱兴工业株式会社(TOK)、JSR、富士胶片和日产化学。
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开盘一字,说明题材迅速发酵。
怡达股份表示:电子级丙二醇甲醚及丙二醇甲醚醋酸酯可以作为稀释剂、 清洗剂或剥离液用于包括半导体、 光刻胶基材、 覆铜板、 液晶显示等电子元器件生产领域。

公司表示,PGMEA又称电子级丙二醇甲醚醋酸酯,属于超净高纯试剂,是一种杂质含量、纯度和洁净度符合SEMI通用标准的有机产品,广泛应用于集成电路、显示面板的光刻胶稀释、清洗等制程工艺


PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯), G5 等级环戊酮、 环己酮等产品纯化技术开发, 并在客户端验证。
G4等级即为电子级,G4级PGMEA(丙二醇甲醚醋酸酯)完全可以用于光刻胶领域,而且是主流的中高端光刻胶专用溶剂。

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