【EUV光刻胶：AI服务器带动需求，关注高端光刻胶国产化机遇】
1.国际巨头加速MOR布局JSR拟在台湾投资设厂，目标2028年投产，为台积电供货MOR光刻胶；韩国新厂2026年投产，面向三星和SK海力士。日企占全球光刻胶约八成份额，JSR以19%市占率居全球第二，前三大厂商中TOK与信越化学已在台湾设厂。
2.EUV竞争升级为系统级方案JSR/Inpria与Entegris达成专利合作，整合MOR光刻胶、纯化及输送技术，协同开发前驱体与超洁净过滤方案。EUV竞争已从单一产品拓展至“光刻胶+前驱体+过滤+输送”的整体解决方案。
3.全球EUV光刻胶市场增长强劲据TECHCET报告，未来五年全球光刻材料市场CAGR约5.7%，2029年有望突破63.5亿美元，2025年EUV光刻胶增速预计达38%。随着各大晶圆厂扩大EUV应用及先进制程演进，EUV光刻胶市场将保持高速增长。
4.国产高端光刻胶获AI助力上海AI实验室联合高校及科研机构，基于“书生”大模型与自动化合成平台，实现KrF光刻胶树脂高效创制，打破国外垄断。恒坤新材完成适配验证，即将进入客户端测试。AI正推动光刻胶研发从经验驱动向标准化、快速迭代转型。
5.行业标准体系逐步完善两项光刻胶团体标准获批发布实施，配套标准体系加速建立健全。行业评级：受益于国产替代、先进制程演进及AI/HBM需求拉动，国内光刻胶市场空间广阔。短期关注KrF、ArF及上游树脂、PAG国产化，中长期看好EUV赛道。
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◆ 光刻胶制造：彤程新材、雅克科技、容大感光、晶瑞电材等；
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