韬定律对飞凯材料的光刻胶使用量将显著增加。得益于其与“韬定律”技术路线深度绑定

2026-09-07 08:31:5811
韬定律对飞凯材料的光刻胶使用量会显著增加。这主要得益于其与“韬定律”技术路线的深度绑定,以及公司自身在产能和产品上的提前布局。
具体来看,主要有以下几个推动力:
· 与“韬定律”深度绑定:韬定律的核心是3D堆叠,这会指数级拉动对先进封装厚膜光刻胶和临时键合胶的需求。飞凯材料的产品已导入盛合晶微、长电、通富等华为系封测厂,直接配套昇腾、麒麟等芯片产线,被市场视为“韬定律材料端第一梯队标的”。· 现有产品已稳定量产:飞凯材料的i-line光刻胶及KrF光刻配套Barc材料已实现稳定量产,在成熟制程扩产和国产替代趋势下,这部分业务需求本身就非常稳固。· 先进封装产品进入收获期:其专为2.5D/3D先进封装设计的厚膜负性光刻胶,是TSV通孔、RDL重布线的关键材料。目前该产品已通过验证并形成小批量订单,即将进入放量阶段。· 产能扩张提供支撑:公司正在大规模扩产,包括年产3万吨的苏州凯芯半导体材料基地等。这些产能将直接对接存储堆叠封装等高景气需求。
总而言之,飞凯材料在“韬定律”驱动的技术变革中占据了有利位置,随着其先进封装光刻胶产品从导入走向量产,光刻胶的使用量和业务规模有望实现显著增长。

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