晶瑞电材：光刻胶技术国内排第二，第一是北京科华，第二是苏州瑞红
A股6只最正宗光刻胶个股，只有300655 晶瑞电材股价还在20元附近
一图看懂湿电子化学品：半导体清洗与蚀刻产业链梳理
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月30日，半导体主线继续高潮，除了存储、设备、封装外，资金还挖掘到湿电子化学品方向。它不是气体材料，而是芯片制造中用于清洗、显影、蚀刻、剥离等环节的高纯液体化学品。简单说，晶圆制造不是:只靠光刻机“刻图案”，每一步前后都要清洗、腐蚀、去残留;湿电子化学品就是晶圆厂里的“精密洗涤剂”。
下面按照“基础原料高纯提纯光刻配套晶圆清洗蚀刻显影晶圆厂扩产”拆开看。(需要说明的是，下文提及的标的多为热门个股或为辅助说明产业链生态而列举，并非绝对核心，仅供直观理解参考)
在产业链上游的基础原料环节，氟化工及光刻胶上游材料供应商(如多氟多、巨化股份、昊华科技、兴业股份、彤程新材、常青科技、兴欣新材)为产业提供了关键的化学底料。
进入中游的高纯提纯与制造环节，具备核心杂质控制与纯化能力的企业(如江化微、晶瑞电材、格林达、肯特催化、上海新阳)将基础原料转化为半导体级高纯试剂。
在下游的晶圆制造应用侧，湿电子化学品广泛参与光刻配套与蚀刻开槽工艺，提供显影液、剥离液及电子级氢氟酸等关键耗材(如滨化股份)，并配合超纯水系统(如沃顿科技、至纯科技、正帆科技)完成高频次的晶圆湿法清洗，整体产业链正伴随下游晶圆厂的扩产步伐实现加速渗透。
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